అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి

సెమిక్స్‌ల్యాబ్ చైనాలో అధిక స్వచ్ఛత గల గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్‌ను తయారుచేసే ఒక ప్రముఖ సంస్థ. ఇది సెమీకండక్టర్, ఫోటోవోల్టాయిక్ మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత పారిశ్రామిక రంగాలకు అధిక పనితీరు గల ఉష్ణ నిరోధక పరిష్కారాలను అందించడంపై దృష్టి పెడుతుంది. ఈ ఉత్పత్తి దిగుమతి చేసుకున్న అధిక స్వచ్ఛత గల గ్రాఫైట్ ముడి పదార్థాన్ని (కల్మషం శాతం ≤0.1%) ఉపయోగిస్తుంది. దీనిని ఒక ప్రత్యేక ప్రక్రియ ద్వారా ఫైబర్ నెట్‌వర్క్ నిర్మాణంతో తయారుచేస్తారు. ఇది అతి తక్కువ ఉష్ణ వాహకత (1000℃ వద్ద ≤ 0.25W /m·K), అత్యధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత (నిరంతర వినియోగ ఉష్ణోగ్రత 3000℃) మరియు రసాయన జడత్వం వంటి ప్రధాన లక్షణాలను కలిగి ఉంది. ఇది ఖచ్చితమైన ఉష్ణ క్షేత్ర వ్యవస్థను నిర్మించడానికి ఒక ఆదర్శవంతమైన పదార్థం.

అధిక స్వచ్ఛత గల గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్ అనేది సెమీకండక్టర్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ పరికరాల యొక్క థర్మల్ ఫీల్డ్ సిస్టమ్‌కు ప్రధాన ఇన్సులేషన్ పదార్థం. అధిక స్వచ్ఛత గల గ్రాఫైట్ ఫైబర్‌లను కచ్చితత్వంతో నేయడం మరియు పేర్చడం ద్వారా, తక్కువ ఉష్ణ వాహకత కలిగిన సచ్ఛిద్ర నిర్మాణం ఏర్పడుతుంది. అధిక ఉష్ణోగ్రత వాతావరణాలలో (ఉదాహరణకు, 800 ℃ కంటే ఎక్కువ), ఇది వికిరణ ఉష్ణాన్ని పరావర్తనం చెందించడం మరియు ఘన-దశ ఉష్ణ బదిలీ మార్గాన్ని తగ్గించడం ద్వారా ఉష్ణ నష్టాన్ని గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది.

ముడి పదార్థాలలోని వ్యత్యాసాలను బట్టి, ఉత్పత్తులను మూడు వర్గాలుగా విభజించారు:

PAN-ఆధారిత గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్: అద్భుతమైన యాంత్రిక లక్షణాలు, సులభమైన ఉత్పత్తి ప్రక్రియ, నిర్మాణ సహాయక పదార్థాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.

విస్కోస్ ఆధారిత గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్: బలమైన అబ్లేటివ్ నిరోధకత, అధిక సాంకేతిక క్లిష్టత, అధిక ఉష్ణోగ్రత ఉష్ణ ఇన్సులేషన్ దృశ్యానికి అనువైనది.

పిచ్ ఆధారిత గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్: ముడి పదార్థాలు సమృద్ధిగా లభిస్తాయి, కార్బనైజేషన్ దిగుబడి ఎక్కువగా ఉంటుంది, కానీ మార్కెట్ వినియోగం పరిమితంగా ఉంటుంది.

1. సెమీకండక్టర్ తయారీ పరికరాలు

సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ గ్రోత్ సిస్టమ్:

CZ పద్ధతి సింగిల్ క్రిస్టల్ ఫర్నేస్‌లో, ద్రవీభవన ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతను (అక్షసంబంధ ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసం ≤2℃/cm) ఖచ్చితంగా నియంత్రించడానికి మరియు సింగిల్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల రేటు యొక్క స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారించడానికి గ్రాఫైట్ హీటర్ మరియు క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్ చుట్టబడి ఉంటాయి.

సిలికాన్ కార్బైడ్ స్ఫటిక వృద్ధి కొలిమి:

PVT పద్ధతిని ఉపయోగించినప్పుడు, కోర్ ఇన్సులేషన్ పొరగా మృదువైన ఫెల్ట్‌ను వాడటం వల్ల కొలిమిలోని అక్షసంబంధ ఉష్ణ క్షేత్రం యొక్క ఏకరూపతను 40% పెంచవచ్చు మరియు స్ఫటిక లోప రేటును < 0.5/cm² కు తగ్గించవచ్చు.

2. ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమ పరికరాలు

పాలీక్రిస్టలైన్ ఇంగాట్ ఫర్నేస్:

మాడ్యులర్ అసెంబ్లీ డిజైన్ కొలిమి యొక్క ఉష్ణ సామర్థ్యాన్ని 85%కి మెరుగుపరుస్తుంది, దీనివల్ల సాంప్రదాయ కార్బన్ హార్డ్ ఫెల్ట్‌తో పోలిస్తే 30% శక్తి ఆదా అవుతుంది.

3. అధిక ఉష్ణోగ్రత పారిశ్రామిక పరికరాలు

వాక్యూమ్ అధిక పీడన గ్యాస్ క్వెంచింగ్ ఫర్నేస్ యొక్క తాపన గదిలోని ఉష్ణ నిరోధక పొర యొక్క శీతలీకరణ రేటు 20% పెరిగింది.

వాక్యూమ్ సింటరింగ్ ఫర్నేస్ యొక్క సింటరింగ్ జోన్‌లోని డైనమిక్ సీలింగ్ సిస్టమ్ ఆర్గాన్ గ్యాస్ వినియోగాన్ని 15% తగ్గిస్తుంది.

అత్యధిక స్వచ్ఛత: బూడిద ≤500ppm, 200ppm, 20ppm, అనుకూలీకరించవచ్చు.

అత్యంత అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత: గరిష్ట నిర్వహణ ఉష్ణోగ్రత 3000℃.

ఆమ్ల మరియు క్షార తుప్పు నిరోధకత: (PH 2-12), సున్నా చర్యాశీలత. 

సాంకేతిక పరిష్కార అనుకూలీకరణ: ఉష్ణ క్షేత్ర అనుకరణ + పదార్థ ఎంపిక ఉమ్మడి రూపకల్పన.

విలక్షణమైన ప్రయోజనాలు: సాంప్రదాయ కార్బన్ ఫెల్ట్ కంటే 200% అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, పోటీ గ్రాఫైట్ ఫెల్ట్ కంటే 50% తక్కువ ఉష్ణ వాహకత, డైనమిక్ సీలింగ్ సిస్టమ్ అనుసంధానానికి మద్దతు.